ٹنگسٹن اسپٹرنگ ہدف
video

ٹنگسٹن اسپٹرنگ ہدف

1. برانڈ: xzy
2. کیٹلاگ: ٹنگسٹن پروڈکٹ
3. مواد: ٹنگسٹن
4. طہارت: 99.95 ٪ سے زیادہ یا اس کے برابر
5. کثافت: 19.3 جی\/سینٹی میٹر
6. شکل: ہوائی جہاز کا ہدف ، گھومنے والا ہدف ، اسپٹرنگ ہدف ، مربع ٹارگٹ ، ٹیوب ہدف ، فاسد شکل کے ساتھ اپنی مرضی کے مطابق ہدف۔
7. تصریح: اپنی مرضی کے مطابق ، 300 کلوگرام\/پی سی سے کم یا اس کے برابر وزن کو ہدف بنایا گیا۔
8. سطح: سرد رولڈ سطح ، کیمیائی صاف شدہ سطح ، پالش سطح
9. درخواست: میگنیٹرن اسپٹرنگ کوٹنگ
10. معیاری: ASTM B760 ، GB\/T 3875-83
11. اصل جگہ: لوئیانگ ، چین۔
انکوائری بھیجنے
مصنوعات کا تعارف

 

 

تعارف

 

 

ٹنگسٹن اسپٹرنگ کا ہدف تیز طہارت کے عمل میں استعمال ہونے والے اعلی طہارت کے مواد ہے ، ایک جسمانی بخار جمع (پی وی ڈی) کا طریقہ جس میں سطحوں پر پتلی فلمیں جمع کرنے کے لئے استعمال کیا جاتا ہے۔ ٹنگسٹن ایک دھات ہے جو اپنے اعلی پگھلنے والے مقام (تقریبا 34 3422 ڈگری) ، سختی ، اور بہترین بجلی کی چالکتا کے لئے جانا جاتا ہے ، جس سے یہ مختلف صنعتوں ، جیسے الیکٹرانکس ، آپٹکس ، اور سیمیکمڈکٹر مینوفیکچرنگ میں اہداف کو پھیلانے کے لئے ایک مثالی مواد بنتا ہے۔

 

خصوصیات

 

 

اعلی درجہ حرارت کی بہترین مزاحمت
ٹنگسٹن کے پاس 3422 ڈگری تک پگھلنے کا مقام ہے ، جس سے یہ اعلی درجہ حرارت کی بہترین مزاحمت ہے۔ مزید برآں ، پھیلنے والے عمل کے دوران ، ٹنگسٹن کا ہدف اعلی توانائی کے آئنوں کی بمباری کا مقابلہ کرسکتا ہے اور آسانی سے خراب یا ہراس نہیں ہوتا ہے۔ اس سے ٹنگسٹن کے ہدف کو اعلی درجہ حرارت اور اعلی توانائی کے ماحول میں مستحکم کام کرنے کی اجازت ملتی ہے۔

 

سنکنرن مزاحمت
ٹنگسٹن مواد میں اچھی آکسیکرن اور سنکنرن مزاحمت ہوتی ہے۔ اعلی درجہ حرارت یا کیمیائی ماحول میں ، ٹنگسٹن اسپٹرنگ ہدف آکسیکرن ، تیزاب اور الکالی سنکنرن کو مؤثر طریقے سے مزاحمت کرسکتا ہے ، اس بات کو یقینی بناتا ہے کہ متعدد پھیلنے والے عمل کے دوران ہدف اچھی کارکردگی کو برقرار رکھے۔

 

استعمال کی وسیع رینج
ہماری مصنوعات سیمیکمڈکٹرز ، آپٹ الیکٹرانکس ، مقناطیسی مواد اور دیگر شعبوں میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتی ہیں۔ سیمیکمڈکٹر انڈسٹری میں ، ٹنگسٹن پتلی فلمیں مربوط سرکٹس کے دھاتی عمل کے عمل میں استعمال ہوتی ہیں۔ آپٹیکل فیلڈ میں ، ٹنگسٹن پتلی فلمیں عکاس کرنے والے یا کوٹنگ مواد تیار کرنے کے لئے استعمال ہوتی ہیں۔

 

پروڈکٹ کیمیائی ساخت

 

 

ٹنگسٹن ہدف کیمیائی ساخت

W

مواد

(%)

ناپاک مواد (پی پی ایم)

ti

نا

C

CA

مگرا

سی

AL

جیسا کہ

فی

نی

پی بی

P

کیو

/

/

99.95 ٪ سے زیادہ یا اس کے برابر

10 پی پی ایم سے کم یا اس کے برابر

5 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

20 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

10 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

7ppm سے کم یا اس کے برابر

10 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

5 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

10 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

10 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

6 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

1 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

8 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

5 سے کم یا اس کے برابر

پی پی ایم

/

/

 

مصنوعات کی کارکردگی کے پیرامیٹرز

 

 

ٹنگسٹن اسپٹرنگ ٹارگٹ پرفارمنس پیرامیٹرز

نمونے کے طول و عرض

12 ملی میٹر × 80 ملی میٹر × 100 ملی میٹر

طہارت

99.95 ٪ (3N5) ​​سے زیادہ یا اس کے برابر

کرسٹل ڈھانچہ

جسم پر مبنی کیوبک (بی سی سی)

اناج کا سائز

43μm

کثافت

19.25 جی\/سینٹی میٹر (ہپ)

پگھلنے کا نقطہ

3410 ڈگری (+ 20 ڈگری)

ابلتے ہوئے نقطہ

5900 ڈگری

تھرمل چالکتا

173 W/(m·K)

بجلی کی چالکتا

18.3×10-6 S/m

تھرمل توسیع کا قابلیت

4.5×10-6/K-1

سختی

Hv5: 280-310

سطح ختم

ra 0. 4μm سے کم یا اس کے برابر

 

 

 

مصنوعات کی پیداوار کا عمل

 

 

Tungsten Sputtering Target Production Process Flow

 

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: ٹنگسٹن اسپٹرنگ ٹارگٹ ، چائنا ٹنگسٹن اسپٹرنگ ٹارگٹ مینوفیکچررز ، سپلائرز ، فیکٹری

انکوائری بھیجنے

whatsapp

ٹیلی فون

ای میل

تحقیقات